Los semiconductores dan un gran salto adelante en su forma de fabricación gracias a esta tecnología
Un equipo de investigación de China y Estados Unidos ha desarrollado un innovador método de "auto-grabado" para fabricar semiconductores. Publicado en Nature, esta técnica sortea las limitaciones de la litografía
Un equipo de investigación formado por expertos de China y Estados Unidos ha logrado un importante avance en la fabricación de semiconductores, desarrollando un método innovador que promete superar las limitaciones actuales y abrir la puerta a una nueva generación de pantallas y dispositivos luminiscentes. Este hallazgo, publicado en la prestigiosa revista Nature, aborda uno de los desafíos más persistentes en la producción de chips avanzados, especialmente cuando se trabaja con materiales delicados y de vanguardia.
Asimismo, este desarrollo surge de la necesidad de sortear los importantes obstáculos que la litografía estándar presenta para los materiales más sensibles y blandos. Procesos como este, que son la base de la manufactura de chips desde hace décadas, tienden a dañar los sustratos frágiles debido a la dispersión lateral de la luz. En particular, las perovskitas de haluro de plomo bidimensionales han demostrado un rendimiento optoelectrónico excepcional, convirtiéndolas en candidatas muy prometedoras para el futuro de la tecnología. Sin embargo, su naturaleza suave y su inherente inestabilidad química han dificultado enormemente su mecanizado de precisión, limitando hasta ahora su aplicación práctica.
La clave: un auto-grabado preciso para semiconductores
En este sentido, el equipo, compuesto por investigadores de la Universidad de Ciencia y Tecnología de China, la Universidad de ShanghaiTech y la Universidad de Purdue, ha presentado una solución ingeniosa. Su nuevo enfoque de fabricación suave, bautizado como "auto-grabado", permite formar microestructuras laterales controladas directamente dentro del material. Esto se consigue aprovechando el estrés interno que se genera durante el propio crecimiento del cristal, una técnica que ofrece un patrón preciso sin incurrir en el daño que provocan los métodos convencionales.
Micron Technology has announced plans to invest $24 billion to build a new memory chip manufacturing facility in Singapore, strengthening its production capacity amid a global shortage of memory chips. The move comes as
— The Mainstream (@TheMainstream7) January 27, 2026
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Gracias a este procedimiento, y según se puede leer en una publicación de South China Morning Post, los investigadores han conseguido crear unidades pixeladas con color y brillo ajustables, dando lugar a una oblea de cristal único con una estructura similar a un mosaico. Este hito no solo representa una demostración de la viabilidad de su método, sino que también establece una plataforma de trabajo innovadora para el desarrollo de dispositivos luminiscentes y de visualización de alto rendimiento, lo que incluye pantallas de próxima generación y diodos emisores de luz (LEDs) más eficientes.
Por otro lado, la fabricación avanzada de chips sigue enfrentándose a considerables limitaciones por su dependencia de equipos complejos y considerablemente costosos, como los sistemas de litografía ultravioleta extrema (EUV). Avances como este, que permiten manipular materiales prometedores de una forma hasta ahora impensable, constituyen notables avances hacia la superación de algunas de estas barreras, abriendo nuevas vías para la innovación en el sector tecnológico.